Finansavimas

ALD technologija,efektyviai naudojama mikroelektronikos pramonėje, užtikrina aukštos kokybės, stabilią, atsikartojančią plonų sluoksnių struktūrą ant įvairių 2D ir 3D paviršių, kurių gabaritai gali būti nuo 1-2 m iki nano struktūrų tokių kaip nanosiūlai, nanovamzdeliai. Pastarųjų keletos metų laikotarpyje, pradėjo augti susidomėjimas ALD taikymo galimybėmis optinių dangų gamyboje, kur iki šiol vyravo fizinio garų nusodinimo technologijos (garinimo, jonapluoščio ir magnetroninio dulkinimo technologijos). Pristatomas darbas skirtas optinių skaidrinančių dangų, suformuotų ant temperatūrai ir aplinkos poveikiui jautrių lazerinių kristalų, dengtų naudojant atominio storio sluoksnių (ALD) technologiją, tyrimui. Kalio dihidrofosfato (KH2PO4 arba KDP) kristalai yra plačiai naudojami kaip netiesiniai optiniai elementai. Pagrindinės šių kristalų savybės, yra didelis netiesiškumas, plati skaidrumo sritis ir santykinai nesudėtingas monokristalų auginimas iš druskos tirpalo. Tačiau tokie kristalai pasižymi dideliu jautrumu aplinkos poveikiui, temperatūriniams gradientams, drėgmei. Dangos ant šių kristalų turi atlikti keletą funkcijų – būti pakankamai tankiomis apsaugančiomis optinius paviršius nuo teršalų iš aplinkos prasiskverbimo, sumažinti optinių paviršių atspindžio koeficientą, ir vienas iš esminių reikalavimų yra didelis atsparumas lazerinei spinduliuotei. Tyrimai pristatomame darbe skirti ištirti HfO2 ir Al2O3 plonų sluoksnių, naudojamų apsauginių dangų formavimui naudojant ALD technologiją, optines ir fizines charakteristikas ir optimizuoti apsauginių skaidrinančių optinių dangų dengimo ant DKDP kristalų ALD technologinius procesus.