BDAR

Jūsų asmens duomenų valdymas.

Siekdami užtikrinti geriausią Jūsų naršymo patirtį, šioje svetainėje naudojame slapukus (angl. cookies). Naršydami toliau patvirtinsite savo sutikimą naudoti slapukus. Savo sutikimą bet kada galėsite atšaukti pakeisdami interneto naršyklės nustatymus ir ištrindami įrašytus slapukus.

Slapukų politika Privatumo politika

 


Spausdinti

Finansavimas

Optinės mikrolitografijos kaukių formavimo technologijų vystymas naudojant eksponavimą bei abliaciją aštriai fokusuotu lazerio pluoštu (LaserMask)

Nr. 09.3.3-LMT-K-712-10-0214

Paraiškos būsena:
Baigtas įgyvendinti
Vykdytojas Kauno technologijos universitetas
Savivaldybė Kauno miesto
Priemonė MOKSLININKŲ, KITŲ TYRĖJŲ, STUDENTŲ MOKSLINĖS KOMPETENCIJOS UGDYMAS PER PRAKTINĘ MOKSLINĘ VEIKLĄ
Prioritetas 9 PRIORITETAS. Visuomenės švietimas ir žmogiškųjų išteklių potencialo didinimas
Kvietimo kodas 09.3.3-LMT-K-712-10

Formuojant mikrostruktūras, kurių realizavimas yra suderinamas su planarinėmis litografijos technologijomis, daugeliu atvejų pakanka ultravioletinės srities kontaktinės litografijos raiškos. Ši lygiagretaus eksponavimo technologija pasižymi dideliu našumu, tačiau ja formuojamas raštas yra visiškai priklausomas nuo naudojamos eksponavimo kaukės. Kokybiška UV litografijos kaukė yra praktiškai didžiausias apribojimas pastarajai technologijai. Kaukės yra formuojamos naudojant specializuotas litografijos technologijas ir kiekvieną kartą norint pagaminti naują struktūrą reikalinga nauja kaukė. Lazerinės tiesioginio eksponavimo sistemos yra viena iš alternatyvų, nes jos leidžia formuoti laisvai pasirinktą vaizdą ir nereikalauja kaukių, tačiau tuo pačiu turi ir akivaizdų trūkumą: tai yra nuoseklaus eksponavimo technologija.Šios praktikos TIKSLAS - pasiūlyti konkurencingą UV litografijoje naudojamų kaukių formavimo technologiją pritaikant eksponavimą fokusuotu lazerio pluoštu bei abliaciją femtosekundiniu lazeriu. Praktikos metu studentas susipažins su pažangiausia analitine bei technologine įranga: švariojo kambario mikro-/nanolitografijos technologijomis, originaliu lazerinio eksponavimo fokusuotu pluoštu stendu, lazerine mikro/nano apdirbimo femtosekundiniu lazeriu sistema; parinks lazerinio poveikio sąlygas užtikrinančias geriausią formuojamų kaukių kokybę; suprojektuos ir realizuos piešinį (kaukę UV litografijai) su mikrometrinių matmenų struktūromis skirtomis dujų jutikliams ir optinėms apsaugos nuo padirbinėjimo priemonėms. Studentas dalyvaus UV litografijos eksponavimo eksperimentuose ir naudojant raiškias mikroskopijos priemones apibūdins kaukės ir ja eksponuotų struktūrų kokybę. Praktika užtikrins kokybiškesnes bakalauro studijas ir tuo pačiu paskatins studentą tęsti mokslus II-oje studijų pakopoje, bei įsilieti į aktualius mokslinius tyrimus vykdomus KTU. Praktikos metu gautus rezultatus studentas pristatys mokslinėje konferencijoje.


Paraiškų informacija

Paraiškos gavimo data: 2018-08-13
Nr. Vertinimo kriterijus Finansavimo statusas Vertinimo balas
1. Tinkamumo vertinimas Taip (2018-09-17)
2. Naudos ir kokybės vertinimas Taip (2018-09-17) 81.00
Paraiškoje nurodyta projekto vertė: 2 839,05 Eur
Prašoma finansavimo suma: 2 839,05 Eur

Sutarties informacija

Projekto veiklų įgyvendinimo pabaiga: 2019-04-30
Sutarties pasirašymo diena: 2018-10-01
Sutarties galiojimo pabaiga: 2019-09-12
Projekto išlaidų suma, Eur Finansavimas, Eur Apmokėta išlaidų suma, Eur Išmokėtas finansavimas, Eur
2 816,33 2 816,33 2 816,33 2 816,33

Stebėsenos rodiklių pasiekimai

Eilės numeris Stebėsenos rodiklio pavadinimas Matavimo vienetas Siektina reikšmė pasirašytose projektų sutartyse Pasiekta reikšmė
1 Tyrėjai, kurie dalyvavo ESF veiklose, skirtose mokytis pagal neformaliojo švietimo programas Skaičius 1.00 1.00

Paskutinė atnaujinimo data: 2026-02-28 07:52

Susiję įrašai